[发明专利]用于在激光烧结中避免在光学组件处的沉积的设备有效
| 申请号： | 201210408950.9 | 申请日： | 2012-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103072282A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | M.格雷贝;S.黑泽尔-格尔德曼;W.迪克曼 | 申请（专利权）人： | 赢创工业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C67/04 | 分类号： | B29C67/04;B29L11/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李少丹;卢江 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在激光烧结中避免在光学组件处的沉积的设备。用于逐层地制造三维对象的设备包括结构空间（19），其具有高度可调整的结构平台（6）、用于将通过电磁辐射的作用可固化的材料的层施加到结构平台（6）上的设备（7）、用于照射所述层的与对象（5）对应的位置的照射装置，所述照射装置包括发射电磁辐射的辐射源（1）、控制单元（3）和处于电磁辐射的光路中的透镜（8），其中，所述设备具有至少一个处于结构空间中或外部的淀积表面（9，13，18）。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光 烧结 避免 光学 组件 沉积 设备 | ||
【主权项】：
用于逐层地制造三维对象的设备，包括结构空间（19），其具有高度可调整的结构平台（6）、用于将通过电磁辐射的作用可固化的材料的层施加到结构平台（6）上的设备（7）、用于照射所述层的与对象（5）对应的位置的照射装置，所述照射装置包括发射电磁辐射的辐射源（1）、控制单元（3）和处于电磁辐射的光路中的透镜（8），其特征在于，所述设备具有至少一个处于结构空间中或外部的淀积表面（9，13，18）。
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