[发明专利]涂布处理装置在审
| 申请号： | 201210393846.7 | 申请日： | 2012-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN103056067A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 川口义广;坂井光广 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C13/02;B05B13/04;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王璐 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是一种涂布处理装置。该涂布处理装置可缩短处理动作的节拍时间，且防止因喷嘴的维护处理而导致的被处理基板的污染。本发明的涂布处理装置包括：喷嘴(31)，具有沿被处理基板(G)的宽度方向延伸的喷出口，在所述处理平台上的所述基板的上方沿基板搬送方向移动，并且从所述喷出口将处理液喷出至所述基板上；喷嘴移动机构(32)，可使所述喷嘴升降移动，且可使所述喷嘴向基板搬送方向上游侧或下游侧移动；喷嘴维护机构(35)，设置在基板搬送路径(4)的下方，且调整所述喷嘴的喷出口的状态；及空出区间形成机构(21)、(22)、(23A)、(23B)、(30)，可在所述基板搬送路径上的所述处理平台的上游侧或下游侧，自由出入地形成特定长度的空出区间(d)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种涂布处理装置，其在水平地搬送被处理基板的基板搬送路径上设置有处理平台，且对所述处理平台上的所述基板涂布处理液，该涂布处理装置的特征在于包括：喷嘴，具有沿所述被处理基板的宽度方向延伸的喷出口，在所述处理平台上的所述基板的上方沿基板搬送方向移动，并且从所述喷出口将处理液喷出至所述基板上；喷嘴移动机构，可使所述喷嘴升降移动，且可使所述喷嘴向基板搬送方向上游侧或下游侧移动；喷嘴维护机构，设置在所述基板搬送路径的下方，且调整所述喷嘴的喷出口的状态；及空出区间形成机构，可在所述基板搬送路径上的所述处理平台的上游侧或下游侧，自由出入地形成特定长度的空出区间；且利用所述喷嘴移动机构来使所述喷嘴移动，且经由利用所述空出区间形成机构而形成的所述基板搬送路径的空出区间，而使所述喷嘴进入所述喷嘴维护机构。
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