[发明专利]高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201210379067.1 申请日: 2012-10-09
公开(公告)号: CN102925896A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 戈士勇 申请(专利权)人: 江阴润玛电子材料股份有限公司
主分类号: C23F1/20 分类号: C23F1/20
代理公司: 江阴市同盛专利事务所 32210 代理人: 唐纫兰;曾丹
地址: 214423 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液,其特征在于:所述铝蚀刻液包括磷酸、醋酸、硝酸、无机氯基化合物、无机硝酸盐化合物、表面活性剂和纯水;所述表面活性剂为阴离子表面活性剂和聚氧乙烯型非离子表面活性剂的混合物。所述工艺是先按配比称重配置;将磷酸加入配料罐中,搅拌下加入醋酸,将磷酸和醋酸搅拌均匀后,搅拌下加入硝酸,因为浓硝酸稀释时将放出大量热,而后将磷酸、醋酸和硝酸混合均匀;往混匀的磷酸、醋酸和硝酸中加入氯化钾或硝酸钾和表面活性剂,然后加入纯水,充分搅拌;将混合物通入过滤器中过滤,得到所述铝蚀刻液。本发明蚀刻液对金属铝蚀刻速率高,反应稳定,无残留,基本无侧蚀现象。
搜索关键词: 蚀刻 速率 残留 酸性 及其 制备 工艺
【主权项】:
一种高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液,其特征在于:所述铝蚀刻液包括磷酸、醋酸、硝酸、无机氯基化合物、无机硝酸盐化合物、表面活性剂和纯水;所述表面活性剂为阴离子表面活性剂和聚氧乙烯型非离子表面活性剂的混合物;所述阴离子表面活性剂,为十二烷基苯磺酸钠和十二烷基苯磺酸的组合物,或者是脂肪醇硫酸钠和脂肪醇硫酸的组合物,或者是十二烷基硫酸钠和十二烷基硫酸的组合物;所述聚氧乙烯型非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚和烷基酚聚氧乙烯醚的组合物;所述无机氯基化合物是可以离解为氯离子的化合物;所述无机硝酸盐化合物为金属硝酸盐;其中,在所述每种原料的重量百分比分别为:所述六种原料中每种原料的重量百分比分别为:磷酸70%~78%、醋酸6%~10%、硝酸4%~6%、无机硝酸盐化合物0.1%~0.2%、无机氯基化合物0.2%~0.3%、阴离子表面活性剂0.01~0.1 wt %、聚氧乙烯型非离子表面活性剂0.05~0.5 wt %、余量为纯水。
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