[发明专利]核磁共振成像设备以及核磁共振成像方法有效

专利信息
申请号: 201210362959.0 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN103033774A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 水谷夏彦;小林哲生;石川洁 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G01R33/20 分类号: G01R33/20;G01R33/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 袁玥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了一种核磁共振成像设备以及核磁共振成像方法。本发明具有提供当共同的磁场被用作光学磁强计的偏磁场并用作要向样品施加的静磁场时避免带有光学磁强计的零灵敏度的区域并允许通过强的磁共振来进行成像的核磁共振成像设备等等的目标。当向样品施加静磁场的静磁场施加单元的方向是z方向时,多个标量磁强计的碱金属单元被布置为在z方向不与要被成像的区域重叠,并且在垂直于z方向的平面内方向不与要被成像的区域交叉。
搜索关键词: 核磁共振成像 设备 以及 方法
【主权项】:
一种用于执行核磁共振成像的核磁共振成像设备,包括:被配置成向被置于要被成像的区域中的样品施加静磁场的静磁场施加单元;被配置成施加RF脉冲的RF脉冲施加单元;被配置成施加梯度磁场的梯度磁场施加单元;以及被配置成检测核磁共振信号的核磁共振信号检测单元,其中,提供多个标量磁强计作为所述核磁共振信号检测单元,其中通过碱金属单元来构成检测所述核磁共振信号的传感器,共同的磁场能够用作操作所述多个标量磁强计的偏磁场并用作要在所述静磁场施加单元中向所述样品施加的静磁场,并且当所述静磁场施加单元在z方向向所述样品施加所述静磁场时,所述多个标量磁强计的所述碱金属单元被布置为在所述z方向不与所述要被成像的区域重叠,并在垂直于所述z方向的平面内方向不与所述要被成像的区域交叉。
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