[发明专利]填孔和光刻用的抗反射涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201210350991.7 | 申请日： | 2004-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN103627316A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | B.李;J.肯尼迪;N.伊瓦莫托;V.卢;R.梁;M.A.弗拉德金;M.A.胡塞恩;M.D.戈德纳 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C09D183/04 | 分类号： | C09D183/04;G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 万雪松 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 发明涉及一种填孔和光刻用的抗反射涂层及其制备方法。本文描述一种吸收组合物，包含由至少一种无机-基化合物和至少一种吸收化合物形成的吸收材料；和至少一种材料改性剂，其中该至少一种材料改性剂包含至少一种氮基基团或取代基。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 反射 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种吸收组合物，包含由至少一种无机‑基化合物和至少一种吸收化合物形成的吸收材料；和至少一种材料改性剂，其中该至少一种材料改性剂包含至少一种氮基基团或取代基。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
