[发明专利]同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法无效
| 申请号： | 201210284975.2 | 申请日： | 2012-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN102765859A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 李安峰;骆坚平;潘涛;郭行;李箭 | 申请（专利权）人： | 北京市环境保护科学研究院 |
| 主分类号： | C02F9/14 | 分类号： | C02F9/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100037 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和化学需氧量的处理方法，属于废水处理技术领域。将废水输送至调节反应池，通过氧化还原反应去除原水中的二氯异氰尿酸钠；经上述处理的废水用泵提升至混凝沉淀池，进行序批式混凝沉淀反应，工艺过程依次为进水、加药、混凝、沉淀和出水；经上述处理的废水从中间池用泵提升至序批式活性污泥池，进行好氧生物处理，工艺过程依次为进水、曝气、沉淀和排水，最终出水中砷和COD浓度可同时达到《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002)一级B标准。本发明的方法可同时去除砷化镓晶片生产加工废水中的砷、二氯异氰尿酸钠和COD等污染物，处理效率高，运行稳定性高。 | ||
| 搜索关键词： | 同时 去除 砷化镓 晶片 生产 加工 水中 cod 处理 方法 | ||
【主权项】：
同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法，其特征在于具体步骤为：1)将砷化镓晶片生产加工废水进入调节反应池中，且在调节反应池中的停留时间在1h以上；投加药剂A和药剂B，使调节反应池中混合反应液pH值为2.5～4；2)将步骤1)中调节反应池中的废水用泵提升至混凝沉淀池，进行序批式混凝沉淀反应，工艺过程依次为进水、加入药剂C、混凝、加入药剂D调节pH值，再加入药剂E，然后沉淀和出水，最后进入中间池；3)将步骤2)中中间池中的废水用泵提升至序批式活性污泥池，进行好氧生物处理，工艺过程依次为进水、曝气、沉淀和排水，曝气过程投加药剂F，最终出水中砷和COD浓度可同时达到《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918‑2002)一级B标准。
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