[发明专利]一种微弧氧化多孔膜改性镁基表面室温化学镀镍的方法有效
申请号: | 201210240758.3 | 申请日: | 2012-07-12 |
公开(公告)号: | CN102808168A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 李均明;张骞文;王爱娟;孙海荣;袁志龙 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36;C23C18/18;C25D11/30 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种微弧氧化多孔膜改性镁基表面室温化学镀镍的方法,先对镁基表面的微弧氧化多孔膜改性处理,合成一层孔径几到十几微米的多孔膜,多孔膜的存在显著增大了镁基体的表面积与表面能,然后进行多孔膜表面的化学镀镍前处理,最后在室温下以次亚磷酸钠为还原剂的普通酸性化学镀镍溶液中进行室温化学镀镍,施镀温度20—30℃之间,显著降低了镀液温度。该方法利用微弧氧化技术在镁基表面合成的改性多孔膜的作用实现在普通酸性镀液中的无加热室温化学镀镍。因微弧氧化工艺与镀液成分的不同,镀镍层的沉积速度在9—17μm/h之间不等。本发明提供的方法技术简单,操作方便,成本低廉,镀层质量高。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化 多孔 改性 表面 室温 化学 方法 | ||
【主权项】:
一种微弧氧化多孔膜改性镁基表面室温化学镀镍的方法,其特征在于,按照以下步骤实施,步骤1、镁基表面的微弧氧化多孔膜改性处理将镁合金板材置于微弧氧化电解液中,调节微弧氧化处理参数:电压300‑470V,频率400—550Hz,占空比6—19%,处理时间5‑23min,得到镁基板材;步骤2、多孔膜表面的化学镀镍前处理将步骤1微弧氧化处理后的镁基板材在敏化液中敏化处理10min,然后取出空冷5min,然后按照0.5g/L的质量浓度将氯化钯加入体积浓度为5mL/L的盐酸中制成活化液,活化液溶剂为去离子水,随即将镁基板材置于活化液中,处理10min,最后,将镁基板材置于质量浓度为7g/L的次亚磷酸钠溶液中还原处理5min;步骤3、室温化学镀镍将步骤2处理后的镁基板材置于镀液中,在室温下施镀30—60min,施镀过程中对镀液进行搅拌,镀覆完成后取出镁基板材,用去离子水冲洗并烘干,即得。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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