[发明专利]MOCVD设备及该设备中的托盘支撑旋转系统有效
申请号: | 201210235247.2 | 申请日: | 2012-07-09 |
公开(公告)号: | CN103540912A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 陈爱华 | 申请(专利权)人: | 中晟光电设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 徐雯琼 |
地址: | 201203 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种MOCVD设备和该设备中的托盘支撑旋转系统。该托盘支撑旋转系统包含托盘及旋转轴,在托盘底面设有向下延伸的凸起,凸起内贯通的空腔与托盘中心区域贯通的开孔相连通;托盘和旋转轴相接触时,托盘底面的凸起至少一部分插入旋转轴顶部设置的凹进部分中,从而提供托盘和旋转轴之间的接触点,使得旋转轴能够支撑托盘并带动托盘旋转。本发明无需增加托盘的整体厚度就能保证托盘上与旋转轴相接触部分的机械强度,可以减轻托盘的重量,改善热容量,缩短托盘加热和冷却的时间。另外托盘重量减轻后,旋转轴上的应力相应减小,延长了旋转轴的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | mocvd 设备 中的 托盘 支撑 旋转 系统 | ||
【主权项】:
一种MOCVD设备中的托盘支撑旋转系统,包含托盘(2)和旋转轴(3),所述旋转轴(3)的轴心线通过托盘(2)的中心区域,其特征在于,所述托盘(2)的中心区域设有贯通该托盘(2)的开孔,托盘底面(22)围绕着轴心线设有向下延伸的凸起(24),且所述凸起(24)中设有在轴心线上贯通该凸起(24)的空腔,所述空腔的顶端和开孔的下端相连通;所述旋转轴(3)的顶部设有容纳所述凸起(24)的凹进部分(34);所述托盘(2)和旋转轴(3)相接触时,托盘底面(22)的凸起(24)至少一部分插入旋转轴(3)顶部的凹进部分(34)中,凸起(24)和凹进部分(34)直接相接触从而提供托盘(2)和旋转轴(3)之间的接触点,使得旋转轴(3)能够支撑托盘(2)并带动托盘(2)旋转。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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