[发明专利]改性的高顺式共轭二烯聚合物及其制造方法有效
| 申请号： | 201210229143.0 | 申请日： | 2012-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN103159877A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 李至程;郑贵伦 | 申请（专利权）人： | 奇美实业股份有限公司 |
| 主分类号： | C08F36/04 | 分类号： | C08F36/04;C08F8/42;B60C1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 孙梵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 改性的高顺式共轭二烯聚合物及其制造方法。制造方法包括进行聚合步骤以形成高顺式共轭二烯聚合物，并使该高顺式共轭二烯聚合物与第一改性剂进行反应，然后与第二改性剂进行反应制得。改性的高顺式共轭二烯聚合物有超过97%的顺式-1,4结构。改性的高顺式共轭二烯聚合物的分子量分散度(PDI)大于1.8且小于2.5。该第一改性剂具有化学式：X-R1-Si(R2)3。该第二改性剂具有化学式R3-Si(R4)3。 | ||
| 搜索关键词： | 改性 顺式 共轭 聚合物 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种改性的高顺式共轭二烯聚合物，其制造方法包括进行聚合步骤以形成高顺式共轭二烯聚合物，并使该高顺式共轭二烯聚合物与第一改性剂进行反应，然后与第二改性剂进行反应制得，其中该改性的高顺式共轭二烯聚合物有超过97%的顺式‑1,4结构，该改性的高顺式共轭二烯聚合物的分子量分散度(PDI)大于1.8且小于2.5，该第一改性剂具有化学式：X‑R1‑Si(R2)3，其中X为环氧丙氧基、异氰酸酯基、2‑(3,4‑环氧环己基)，R1为具有2至3个碳原子的烷基，R2为具有2至3个碳原子的烷基或具有1至3个碳原子的烷氧基；该第二改性剂具有化学式R3‑Si(R4)3，其中，R3为具有1至12个碳原子的烷基、烷氧基、芳香基、芳氧基与环烷基中的一种，R4为具有1至12个碳原子的烷基、烷氧基、芳氧基与环烷基中的一种。
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