[发明专利]一种光学纯高喜树碱中间体的制备方法有效
申请号: | 201210204094.5 | 申请日: | 2012-06-19 |
公开(公告)号: | CN102702214A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 张万年;缪震元;祝令建;盛春泉;姚建忠 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军第二军医大学 |
主分类号: | C07D491/147 | 分类号: | C07D491/147;C07D491/22 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 丁振英 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明涉及合成光学纯高喜树碱的手性中间体化合物R-CDE环(I)的制备方法。高喜树碱的化学结构中存在一个手性中心,构效关系研究表明:R构型异构体活性明显高于S构型异构体,制备R-高喜树碱的关键是获得光学纯的中间体R-CDE环(I)。本发明提供一种制备R-CDE环(I)的方法,合成路线如下: |
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搜索关键词: | 一种 光学 喜树碱 中间体 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学纯高喜树碱中间体R-CDE环(I)的制备方法,其化学结构如下:
式中R1为氢或含C1~C5的直链烷基,具体步骤为:1)将化合物(III)溶解于溶剂配制成溶液,在强碱催化和氮气保护下,与三苯基膦溴代甲烷溶液经Wittg反应生成化合物(IV):
其中,R1为氢或含C1~C5的直链烷基,R2和R3为相连的或不相连的含C1~C5的直链或支链烷基,所说的强碱选自氨基钠、六甲基二硅基胺基钾、氢化钠,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-10℃~35℃,反应时间控制在2~6小时;2)将化合物(IV)溶解于溶剂配制成溶液,采用经典的Sharpless不对称双羟基化方法,在标准计量的AD-mix-β催化下生成R-二醇化合物(V):
所说的溶剂为醇与水的混合物,所说的醇选自乙醇、异丙醇、叔丁醇,醇与水的比例为0.5∶1~2∶1,反应温度为-10℃~35℃,反应时间控制在24~72小时;3)将R-二醇化合物(V)溶解于溶剂配制成溶液,在碱催化下通过甲磺酰氯生成甲磺酸酯化合物(VI):
所说的碱选自二乙胺、吡啶、三乙胺、DMAP,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-10℃~35℃,反应时间控制在0.5~3小时;4)将甲磺酸酯化合物(VI)溶解于溶剂配制成溶液,与氰化物反应生成腈(VII),使得伯醇羟基转化为氰基:
所说的氰化物选自氰化钠、氰化钾、氰化钙,所说的溶剂选自DMF、四氢呋喃、DMSO中的一种或几种,反应温度为25℃~100℃,反应时间控制在4~12小时;5)将腈(VII)溶解于溶剂配制成溶液,在酸性条件下水解生成酸,同时脱去酮羰基的保护基团,并环合生成R-CDE环(I):
所说的酸选自盐酸、硫酸、磷酸、氢溴酸、硝酸、醋酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、水杨酸、草酸中的一种或几种,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、乙醇等有机溶剂中的一种或几种,反应温度为30℃~100℃,反应时间控制在4~8小时。
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