[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201210171635.9 | 申请日： | 2012-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN102717324A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 王士敏;彭勇;陈雄达;钟荣苹;商陆平;李绍宗 | 申请（专利权）人： | 深圳莱宝高科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种基板处理装置。该基板处理装置用于处理基板，其至少包括磨头、承载台及缓冲垫，所述磨头用于对所述基板进行抛光，所述承载台用于承载所述基板，所述缓冲垫设置于所述基板与承载台之间，用于在所述磨头对所述基板进行抛光时起缓冲作用；所述承载台包括承载部分和限定部分，所述承载部分用于承载所述缓冲垫及基板，所述限定部分用于限定所述缓冲垫及基板，防止所述基板及缓冲垫发生较大的位移；所述承载部分至少包括第一表面，所述限定部分至少包括第二表面，所述限定部分通过所述第二表面与所述第一表面结合与所述承载部分结合。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，用于处理基板，其至少包括磨头、承载台及缓冲垫，所述磨头用于对所述基板进行抛光，所述承载台用于承载所述基板，所述缓冲垫设置于所述基板与承载台之间，用于在所述磨头对所述基板进行抛光时起缓冲作用；所述承载台包括承载部分和限定部分，所述承载部分用于承载所述缓冲垫及基板，所述限定部分用于限定所述缓冲垫及基板，防止所述基板及缓冲垫发生较大的位移；所述承载部分至少包括第一表面，所述限定部分至少包括第二表面，所述限定部分通过所述第二表面与所述第一表面结合与所述承载部分结合。
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