[发明专利]一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法有效
| 申请号： | 201210164106.6 | 申请日： | 2012-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN102787299A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 刘黎明;陈军;关永卿;洪婧;陈虹飞;田俊杰;汪文忠;邓凤林;郑栋;将卫金;赵山泉 | 申请（专利权）人： | 杭州大和热磁电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/54 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 尉伟敏 |
| 地址： | 310053 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法，真空镀膜装置包括真空腔体、真空泵和低温泵，真空腔体的顶部设有伞架，伞架上放置待镀膜的基片，真空腔体内设有e型电子枪，e型电子枪上设有排列成圈并可沿圆心转动的坩埚，坩埚内放有镀膜材料，在坩埚加热位的上方设有挡板，低温泵与真空腔体的连接管上设有插板阀，本发明在电子枪的电子束流轨迹控制中采用分区控制原理，在各区间分别控制X轴扫描线圈和Y轴扫描线圈的电流频率，继而控制电子束流在镀膜材料表面各区块的扫描时间，解决了氧化物材料蒸发不均匀产生的深坑现象，有效防止坩埚损坏或基片报废。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 装置 控制系统 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜装置，包括真空腔体（1）、与真空腔体连接的真空泵（2）和低温泵（3），所述真空腔体的顶部设有伞架（4），所述伞架上放置待镀膜的基片（5），在真空腔体的下部设有e型电子枪（6），在电子枪内设有坩埚（7），所述坩埚内放有镀膜材料，真空腔体上设有观察窗（8），其特征在于：所述e型电子枪内设有排列成一圆圈并可沿圆心转动的坩埚位，所述坩埚设在坩埚位上，所述坩埚位包括一个加热位（9）和若干个存放位（10），所述坩埚加热位的上方设有挡板（11），所述挡板为活动式，所述低温泵与真空腔体的连接管上设有插板阀（12）。
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