[发明专利]制备(Ti,Al)BN陶瓷基非晶-纳米晶耐磨耐蚀复合涂层的工艺无效

专利信息
申请号: 201210132842.3 申请日: 2012-04-28
公开(公告)号: CN102660732A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 徐江 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: C23C14/36 分类号: C23C14/36;C23C14/06;C23C14/14;C23C8/36
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 李纪昌
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 制备(Ti,Al)BN陶瓷基非晶-纳米晶耐磨耐蚀复合涂层的工艺,步骤为:首先进行双阴极等离子溅射沉积;然后进行离子氮化;溅射的靶材的种类:以热等静压工艺制备的成分质量配比为Ti:B:Al=6:3:1粉末冶金烧结板;工件材料的种类:钛合金。本发明利用双阴极等离子溅射技术,通过调整靶材的成分和气体之间的比例,实现了原位生成(Ti,Al)BN非晶-纳米晶复合涂层。简化了制备工艺,提高了涂层整体性能。
搜索关键词: 制备 ti al bn 陶瓷 基非晶 纳米 耐磨 复合 涂层 工艺
【主权项】:
制备 (Ti,Al)BN陶瓷基非晶‑纳米晶耐磨耐蚀复合涂层的工艺,其特征在于步骤为:a. 首先进行双阴极等离子溅射沉积,工艺参数如下:靶材电压500~1000 V,工件电压300~450 V,靶材与工件间距10~30 mm,工作气压20~45Pa,沉积温度450~650℃;b. 然后进行离子氮化,工艺参数如下: 工件电压650~850V,氮化温度450~600℃,工作气压20~45Pa,氮分压0.1‑1 Pa;离子氮化1~2小时; c.溅射的靶材的种类:以热等静压工艺制备的成分质量配比为Ti:B:Al=6:3:1粉末冶金烧结板;d. 工件材料的种类:钛合金。
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