[发明专利]修饰核苷单体及其合成方法和应用有效
| 申请号： | 201210130023.5 | 申请日： | 2012-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN103232507A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 杨振军;王晓锋;刘洋;张礼和 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C07H19/073 | 分类号： | C07H19/073;C07H1/00;C12N15/113;C12N15/10 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了两类修饰核苷单体及其合成方法和应用，本发明提供的两类新的修饰核苷单体，具有如式I或式II的结构，本发明还提供其合成方法，并且该单体能够方便地用于与多肽共价缀合的寡核苷酸的固相合成中，并且在多肽和寡核苷酸之间构建二硫连接基或三氮唑连接基。采用本发明所提供的修饰核苷单体进行与多肽共价缀合的寡核苷酸的合成，具有反应特异性强、载量相对高及操作简便等优点。 |
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| 搜索关键词： | 修饰 核苷 单体 及其 合成 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.修饰核苷单体，具有如式I或式II的结构![]()
其中的糖为L-构型或者D-构型；所述X为O或S-S；所述R1为羟基、氢、取代羟基、氨基，取代氨基、巯基或取代巯基，R2为具有紫外吸收的保护基，R3为氢，天然的嘌呤、嘧啶碱基，非天然或人工修饰合成的嘌呤、嘧啶碱基；R4为-R-NH2、![]()
-R-COOH、![]()
其中R为C1-C8的低级烷基、链烯基、链炔基、芳基、芳烷基或者含有杂原子的上述基团。
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