[发明专利]一种MASK表面附着有机物的清除方法无效
| 申请号： | 201210116509.3 | 申请日： | 2012-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN102650031A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 王信超 | 申请（专利权）人： | 彩虹(佛山)平板显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 田洲 |
| 地址： | 528300 广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MASK表面附着有机物的清除方法，包括以下步骤：步骤1)：将MASK放入第一真空箱中加热真空蒸发有机物，加热温度大于有机物的升华温度，小于有机物的玻璃化温度；步骤2)：覆盖MASK的化合物蒸发完毕，将MASK移入第二真空箱中，进行真空空烧，使附着在MASK表面的杂质变质分解；真空空烧的温度大于将MASK表面的杂质分解温度，且小于使MASK发生形变或MASK发生形变后不可恢复的温度；步骤3)：将经过步骤2)处理的MASK冷却(自然冷却或通入惰性气体、N2等)至室温，然后用纯水清洗后风干即可。本发明方法流程简单，容易控制，即对MASK无损害还可以实现有机物的回收利用，又不产生有害气体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mask 表面 附着 有机物 清除 方法 | ||
【主权项】：
一种MASK表面附着有机物的清除方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1)：将使用过的MASK放入第一真空箱中，该MASK上附着有若干种有机物；将MASK在第一真空箱中真空加热蒸发所述若干种有机物；步骤2)：覆盖MASK的若干种有机物蒸发完毕，将MASK移入第二真空箱中，进行真空空烧，使附着在MASK表面的杂质分解；真空空烧的温度大于将MASK表面的杂质分解的温度，且小于使MASK发生形变或MASK发生形变后不可恢复的温度；步骤3)：将经过步骤2)处理的MASK冷却至室温，然后用纯水清洗后风干即可。
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