[发明专利]MgZnO/NPB紫外光探测器及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201210109738.2 申请日: 2012-04-13
公开(公告)号: CN102623543A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 张希清;胡佐富;刘凤娟;李振军;王永生 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: H01L31/09 分类号: H01L31/09;H01L31/0296;H01L31/18
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 李鸿华
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: MgZnO/NPB紫外光探测器及其制作方法,属于光电子信息领域,涉及一种MgZnO/NPB紫外光探测器,主要用于产生低偏压、高响应的紫外光探测器。解决了无机宽禁带半导体p型掺杂问题和有机电子迁移率低的问题。该探测器是在石英ITO衬底上生长单相MgxZn1-xO薄膜、NPB薄膜、LiF薄膜和电极。其制作方法为:将石英ITO衬底在MBE预生长室中预处理;在MBE生长室中生长温度为400-500℃下,生长厚度为200-350nm的MgxZn1-xO薄膜,其中X=0.1-0.4;然后传入热蒸发中,在其上生长厚度为50-120nm NPB薄膜;在NPB薄膜上生长厚度为0.5-2nm的LiF电极修饰层;在LiF电极修饰层上制作电极,制作出石英ITO/MgxZn1-xO/NPB/LiF/电极结构的MgZnO/NPB紫外光探测器。
搜索关键词: mgzno npb 紫外光 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
一种MgZnO/NPB紫外光探测器,其特征在于:MgZnO/NPB紫外光探测器是在石英ITO衬底上生长单相MgxZn1‑xO薄膜、NPB薄膜、LiF薄膜和电极。
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