[发明专利]一种含有硅通孔压阻式加速度传感器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201210093089.1 申请日: 2012-03-31
公开(公告)号: CN103364584A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 朱智源;于民;朱韫晖;孙新;陈兢;缪旻;金玉丰 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G01P15/12 分类号: G01P15/12;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100871 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种含有硅通孔压阻式加速度传感器及其制造方法,属于微机械电子技术领域。本发明的压阻式加速度传感器包括含有硅通孔阵列的质量块,含硅通孔的硅基边框,多个弹性梁,压敏电阻及半导体底板;所述质量块位于加速度传感器中央并具有平整规则的顶面与底面;所述质量块中硅通孔分为填充通孔和非填充通孔;所述硅集边框上的硅通孔位于边框对角处,经由金属导线与压敏电阻相连;所述弹性梁一端与质量块顶部边缘连接,另一端与硅基边框内缘连接;所述压敏电阻位于弹性梁端部;所述质量块,硅基边框,弹性梁均固定在半导体底板上。本发明还公开了含有硅通孔压阻式加速度传感器的制造方法。本发明可用于现代工业生产、科学研究及日常生活中的多个应用领域。
搜索关键词: 一种 含有 硅通孔压阻式 加速度 传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种含有硅通孔压阻式加速度传感器,其包括含有硅通孔阵列的质量块,含硅通孔的硅基边框,多个弹性梁,压敏电阻及半导体底板;所述质量块,硅基边框,弹性梁均固定在半导体底板上,质量块位于加速度传感器中央并具有平整规则的顶面与底面,其特征在于,所述质量块中设有多个对称分布的填充通孔与非填充通孔,所述填充通孔与非填充通孔均与质量块梯形斜面部分不相接。
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