[发明专利]基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法

摘要

本发明公开了一种基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法，是使用光栅模板利用纳米压印技术制备SU-8胶的纳米光栅结构，接着在SU-8胶的光栅结构上旋涂一层脱模剂，然后利用狭缝型挤压涂胶的方式在覆有脱模剂的SU8胶的光栅结构上涂覆一层SU-8胶，涂覆的SU-8胶层在表面张力的作用下与截留在光栅内的空气压力平衡以形成微纳米通道，最终完成微纳米流控系统的制备。本发明无需高压高温，这就避免了了聚合物光栅结构的变形和破坏，提高了加工的成功率；本发明可以通过调节聚合物表面张力来控制微纳米通道的尺寸。

主权项

基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法，其特征在于按以下步骤制备：a、以玻璃片或硅片为基底，在经预处理的基底的表面旋涂一层厚度为2微米的SU‑8光刻胶，在85‑95℃下烘烤15‑25分钟，得到待压印的SU‑8光刻胶胶层；b、在经预处理的光栅模板上旋涂一层脱模剂，然后置于85‑95℃的热台上加热10‑20分钟，待自然冷却后得到用于压印的光栅模板；c、将用于压印的光栅模板反盖在待压印的SU‑8光刻胶胶层上，以聚合物热压印的方法进行纳米压印，压印压强为20MPa，压印温度为100℃，保温30分钟，待自然冷却后得到未固化的SU‑8胶光栅图形；将未固化的SU‑8胶光栅图形在紫外曝光机下曝光，随后在温度为85‑95℃的热台上烘烤20分钟，自然冷却后取下光栅模板得到固化完全的SU‑8胶的光栅结构；d、在固化完全的SU‑8胶的光栅结构上旋涂一层脱模剂，然后置于85‑95℃的热台上加热10‑20分钟，待自然冷却后得到覆有脱模剂的SU‑8胶的光栅结构；e、利用狭缝型挤压涂胶的方式在覆有脱模剂的SU‑8胶的光栅结构上涂覆一层SU‑8光刻胶，置于85‑95℃的热台上加热15分钟，自然冷却后在紫外曝光机下曝光，随后置于85‑95℃的热台上加热20分钟，待自然冷却后得到微纳米通道。