[发明专利]一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液及制备方法有效
申请号: | 201210087659.6 | 申请日: | 2012-03-29 |
公开(公告)号: | CN102560602A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 蒋永锋;包晔峰;杨可 | 申请(专利权)人: | 河海大学常州校区 |
主分类号: | C25D11/32 | 分类号: | C25D11/32 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 213022 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液及制备方法,把硅片置入如下溶液中:包括组分:酸5-10%,有机醇5-10%,水80-85%;以重量百分比计;所述酸为草酸或浓度为85%的磷酸,所述有机醇为乙醇或丙三醇,所述水为去离子水;以硅片为阳极,以不锈钢或惰性电极材料为阴极,在40-60V电压下,处理1-8小时,取出硅片,即可得到双面纳米孔硅片;本发明采用硅片无氟阳极氧化技术工艺,该方法与环境兼容性好,具有环保的特点;因溶液为室温,简化了硅片的处理工序;本发明处理后的硅片表面纳米孔的直径和深度根据工艺调整,纳米孔的分布密度也可根据工艺可调,这样降低了成本,提高了光的转化效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 硅片 表面 纳米 阵列 溶液 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液,其特征在于,包括如下组分:酸5‑10%,有机醇5‑10%,水80‑85%;以重量百分比计;所述酸为草酸或浓度为85%的磷酸,所述有机醇为乙醇或丙三醇,所述水为去离子水。
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