[发明专利]一种抗辐射涂布膜的制备方法无效
| 申请号： | 201210049298.6 | 申请日： | 2012-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN102675671A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 金国华 | 申请（专利权）人： | 苏州金海薄膜科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C09J7/02;C09J133/00;C09J171/00;C09J167/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 215400 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗辐射涂布膜的制备方法，该方法的步骤为将透明薄膜基片进行表面处理，在处理面上涂布复合胶层；向平均粒径为15nm～300nm的混合纳米粉体中加入分散剂经砂磨机砂磨分散成悬浮液；将所述的悬浮液涂布在透明薄膜基片的复合胶层面上，最后固化成膜即得抗辐射涂布膜。本发明与现有技术相比的优点为：采用本方法生产抗辐射涂布膜，涂料化合物形成的涂层均匀、厚度可控性好且膜层间附着力更好，产品质量性能优异；本方法工艺简单、效率高、成本较低，可实现工业化大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 涂布膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种抗辐射涂布膜的制备方法，其特征在于：该制作方法的具体步骤如下：将透明薄膜基片进行表面处理，在处理面上涂布复合胶层；向平均粒径为15nm～300nm的混合纳米粉体中加入分散剂经砂磨机砂磨分散成悬浮液；将所述的悬浮液涂布在透明薄膜基片的复合胶层面上，最后固化成膜即得抗辐射涂布膜。
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