[发明专利]一种多晶硅串联二极管串及其制作方法无效
申请号: | 201210040390.6 | 申请日: | 2012-02-20 |
公开(公告)号: | CN102543998A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 姜一波;杜寰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L27/082;H01L21/822 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及半导体制造领域,具体涉及一种多晶硅串联二极管串及其制作方法。所述多晶硅串联二极管串,包括半导体衬底、设置在半导体衬底上的氧化层、设置在氧化层上的多晶硅层以及设置在多晶硅层上的第一金属引出和第二金属引出;多晶硅层为注入了P型杂质和N型杂质的、且P注入区与N注入区交替排列的具有PN结或PIN结结构的多晶硅二极管,多晶硅二极管通过第二金属引出连接形成多晶硅二极管串;第一金属引出与多晶硅二极管串一端的P注入区连接形成阳极;第二金属引出与多晶硅二极管串另一端的N注入区连接形成阴极。本发明具有良好的工艺兼容性,进一步减小寄生电容,控制正向开启及反向崩溃电压,满足各种器件的静电保护需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 串联 二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种多晶硅串联二极管串,其特征在于:包括半导体衬底、设置在所述半导体衬底上的氧化层、设置在所述氧化层上的多晶硅层以及设置在所述多晶硅层上的第一金属引出和第二金属引出;所述多晶硅层为注入了P型杂质和N型杂质的、且P注入区与N注入区交替排列的具有PN结或PIN结结构的多晶硅二极管,所述多晶硅二极管通过所述第二金属引出连接形成多晶硅二极管串;所述第一金属引出与所述多晶硅二极管串一端的P注入区连接形成阳极;所述第二金属引出与所述多晶硅二极管串另一端的N注入区连接形成阴极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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