[发明专利]一种具有内嵌电容的印制电路板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210038317.5 申请日: 2012-02-20
公开(公告)号: CN102595786A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 何为;金轶;周国云;王守绪;张怀武 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H05K1/16 分类号: H05K1/16;H05K3/30
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种具有内嵌电容的印制电路板及制造方法,属于印制电路技术领域。在单层印制电路板的覆铜层中嵌入至少一个内嵌电容;所述内嵌电容的下电极与覆铜层相接触、上电极与覆铜层相绝缘、介质层位于上电极与下电极之间。将至少一层具有内嵌电容的印制电路板与其他单层印制电路板层压,形成具有内嵌电容的多层印制电路板。制作时,首先在覆铜层需要内嵌电容的区域刻蚀掉部分覆铜层,形成凹槽,凹槽底部的铜层作为内嵌电容的下电极;然后在凹槽内填充介质材料;最后在介质层表面沉积金属层作为内嵌电容的上电极。本发明可以采用现有工艺,加工出精确度高,均匀性好的内嵌电容,并能最大限度的节省形成电容介质层所需要的材料,成本低,适用于工业化生产。
搜索关键词: 一种 具有 电容 印制 电路板 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具有内嵌电容的印制电路板,包括至少一层单层印制电路板(200),所述单层印制电路板(200)基材层(210)表面的覆铜层(220)中嵌入有至少一个内嵌电容(230);所述内嵌电容(230)的下电极金属层(231)与覆铜层(220)相接触,所述内嵌电容(230)的上电极金属层(233)与覆铜层(220)相绝缘,所述内嵌电容(230)的介质层(232)位于所述上电极金属层(233)与下电极金属层(231)之间。
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