[发明专利]砷化镓图像传感器圆片级芯片尺寸封装方法及其结构无效

专利信息
申请号: 201210026566.2 申请日: 2012-02-07
公开(公告)号: CN103241707A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 王双福;罗乐;徐高卫;叶交托 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B7/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种砷化镓图像传感器圆片级芯片尺寸封装方法及其结构,该方法包括以下步骤:提供一预设若干焊盘(22)的基于砷化镓衬底材料的图像传感器晶圆(20),与一透明载片(10)利用干膜(12)进行键合;直接在砷化镓图像传感器晶圆(20)的背面与焊盘对应的位置制作垂直互连通孔(21)至接触该焊盘;在步骤2)获得的结构上除焊盘以外的部分制作形成绝缘薄膜层(28);通孔金属化工艺;依次制作RDL层(25)、钝化层(26)和电镀凸点(32);最后划片形成独立的封装器件。该封装方法采用干膜键合技术和激光通孔制作技术,避免了对砷化镓图像传感器晶片的减薄,降低了工艺难度并提高成品率,为图像传感器提供可靠的保护。
搜索关键词: 砷化镓 图像传感器 圆片级 芯片 尺寸 封装 方法 及其 结构
【主权项】:
一种砷化镓图像传感器圆片级芯片尺寸封装方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:1)提供一预设若干焊盘(22)的基于砷化镓衬底材料的图像传感器晶圆(20),与一透明载片(10)利用干膜(12)进行键合;2)直接在图像传感器晶圆(20)的背面,与焊盘对应的位置制作垂直互连通孔(21)至接触该焊盘;3)在步骤2)获得的结构上除焊盘以外的部分制作形成绝缘薄膜层(28);4)通孔金属化工艺;5)依次制作RDL层(25)、钝化层(26)和电镀凸点(32);6)最后划片形成独立的封装器件。
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