[发明专利]一种表面贴装技术(SMT)印刷模板的混合制作工艺有效

专利信息
申请号: 201210010727.9 申请日: 2012-01-16
公开(公告)号: CN103203965B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;赵录军;王峰 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: B41C1/14 分类号: B41C1/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种表面贴装技术(SMT)印刷模板的混合制作工艺。工艺流程如下模板PCB面凸起及印刷面凹陷区域制作基板处理→前处理(除油、酸洗)→双面贴膜→PCB面曝光→印刷面曝光→双面显影→双面蚀刻;模板开口的制作印刷面激光切割。由此工艺制备可PCB面具有凸起台阶(up step),印刷面具有凹陷台阶(down step)的金属模板。由此工艺制备得到的金属模板,基板图形区域和up step图形区域的开口质量好,孔壁光滑,无毛刺、熔渣现象;金属模板的板面质量好,平整,开口区域无凸起变形现象;凸起台阶(up step)图形开口区域与基板的开口区域的位置精度高。
搜索关键词: 一种 表面 技术 smt 印刷 模板 混合 制作 工艺
【主权项】:
一种表面贴装技术(SMT)印刷模板的混合制作工艺,其工艺流程如下:模板PCB面凸起及印刷面凹陷区域制作:基板处理→前处理→双面贴膜→PCB面曝光→印刷面曝光→双面显影→双面蚀刻;模板开口的制作:印刷面激光切割→电抛光;其中,基板处理是选择不锈钢作为基板材料,并将基板裁剪成所需尺寸;前处理是将基板进行除油、酸洗和两面喷砂处理;双面贴膜是选择附着力高的干膜,进行双面贴膜;PCB面曝光的曝光区域为PCB面凸起台阶区域,曝光后的干膜作为后续蚀刻工艺的保护膜,避免基板被腐蚀液侵蚀;印刷面曝光的曝光区域为印刷面凹陷区域以外的区域,曝光后的干膜作为后续蚀刻工艺的保护膜,避免基板被腐蚀液侵蚀;双面显影是将未曝光干膜显影清除;双面蚀刻是通过贴膜、曝光、显影后的基板送入卧式双面蚀刻机,通过上下喷淋的方式将蚀刻液喷淋到基板的PCB面及印刷面,在无曝光干膜的基板表面产生化学反应,蚀刻掉一层金属,这样就在PCB面上形成了凸起台阶区域,在印刷面上形成凹陷台阶区域;模板开口的制作是蚀刻完成后,将干膜全部清洗干净,上激光切割台,印刷面朝上,通过CCD读取边孔控位置坐标,确定开口切割位置,调整好切割参数,通过激光切割头发射出激光,在基板表面的开口区域进行切割,此后对基板进行电抛光。
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