[发明专利]随机达曼光栅的制备方法有效
申请号: | 201210007105.0 | 申请日: | 2012-01-11 |
公开(公告)号: | CN102565903A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 王少卿;周常河;韦盛斌;贾伟;曹红超;麻健勇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G03F7/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种随机达曼光栅的制备方法,包括下列步骤:①在两面平行的透明介质基片的一面涂匀光刻胶,置于随机光场下曝光显影并刻蚀,从而在刻蚀面形成具备一定深度的随机图案,②在所述的透明介质另一面涂匀光刻胶,置于达曼光栅掩模图案下曝光显影和刻蚀,形成具备一定深度的传统达曼光栅结构图案。或先单独加工一个传统的达曼光栅和一个随机相位板,将所述的达曼光栅和所述的随机相位板紧贴组合在一起形成。本发明随机达曼光栅具备衍射光信息量大的优点,相对于传统随机相位板,随机达曼光栅衍射光具备规则点阵光信息,信噪比高,信号处理方便等优点。随机达曼光栅有望在精密测量、机器视觉、航空航天等领域得到广泛的应用。 | ||
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【主权项】:
一种随机达曼光栅的制备方法,其特征在于该方法包括下列步骤:①在两面平行的透明介质基片的一面涂匀光刻胶,置于随机光场下曝光显影并刻蚀,从而在刻蚀面形成具备一定深度的随机图案,此时该基片衍射图样为保留零级光的均匀分布的随机散斑,所述随机光场可通过均匀光照明磨砂玻璃产生;②在所述的透明介质另一面涂匀光刻胶,置于达曼光栅掩模图案下曝光显影和刻蚀,并控制显影和刻蚀的时间,从而在介质基片的此面形成具备一定深度的传统达曼光栅结构图案;所述的步骤①和步骤②的先后顺序可以互换。
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