[发明专利]嵌段共聚物的制造方法及共聚物前体有效
申请号: | 201180017897.3 | 申请日: | 2011-04-08 |
公开(公告)号: | CN102858826A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 新谷武士;立石祐一;冈户俊明 | 申请(专利权)人: | 日本曹达株式会社 |
主分类号: | C08F293/00 | 分类号: | C08F293/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;金世煜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明的目的在于提供作为颜料的分散剂等有用的新型共聚物的制造方法。本发明的制造方法如下。通过对含有嵌段链(A)和嵌段链(B)的共聚物前体进行加热,制造含有嵌段链(A)和嵌段链(B1)的嵌段共聚物,所述嵌段链(A)由以下聚合物形成:该聚合物包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基团的重复单元中的至少1种重复单元,所述嵌段链(B)由以下共聚物形成:该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和下述式(I)表示的含有已保护的酸性基团的重复单元,所述嵌段链(B1)由以下共聚物形成:该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和下述式(II)表示的含有酸性基团的重复单元。 |
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搜索关键词: | 共聚物 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种嵌段共聚物的制造方法,所述嵌段共聚物含有嵌段链(A)和嵌段链(B1),所述嵌段链(B1)由以下共聚物形成:该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和式(II)表示的含有酸性基团的重复单元,其特征在于,对含有嵌段链(A)和嵌段链(B)的共聚物前体进行加热,所述嵌段链(A)由以下聚合物形成:该聚合物包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基团的重复单元中的至少1种重复单元,所述嵌段链(B)由以下共聚物形成:该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和式(I)表示的含有已保护的酸性基团的重复单元,
式(I)中,R1、R2、R3各自独立地表示氢原子或者C1~C3烷基,X表示单键或者C1~C10亚烷基、选自-C(=O)OR1a-、-C(=O)NHR1a-、-OC(=O)R1a-和-R2a-OC(=O)R1a-中的基团,R1a、R2a各自独立地表示C1~C10亚烷基或者C1~C10亚烷基-O-C1~C10亚烷基,R4表示氢原子、C1~C6烷基、C6~C10芳基C1~C6烷基、或者C6~C10芳基,R5表示C1~C6烷基、C6~C10芳基C1~C6烷基、或者C6~C10芳基,
式(II)中,R1、R2、R3、X表示与式(I)相同的意思。
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