[实用新型]一种表面均匀设置有凹坑的子弹无效
申请号: | 201120121236.2 | 申请日: | 2011-04-22 |
公开(公告)号: | CN202066431U | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
发明(设计)人: | 高爱学;高云宁 | 申请(专利权)人: | 高爱学 |
主分类号: | F42B12/02 | 分类号: | F42B12/02;F42B10/00 |
代理公司: | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100 | 代理人: | 董金国 |
地址: | 050000 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种表面均匀设置有凹坑的子弹,它包括子弹、设置于子弹尖端弧面上的凹坑,所述的凹坑为圆周均匀设置。本实用新型在子弹尖端设有凹坑结构,能很好的在物体表面凹坑里形成负压区,能使高密度,高压层得到一部分瓦解,从而降低阻力、提高速度,降低子弹飞行时的所需要的能量。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 均匀 设置 有凹坑 子弹 | ||
【主权项】:
一种表面均匀设置有凹坑的子弹,其特征在于其包括子弹(1)、设置于子弹(1)尖端弧面上的凹坑(2),所述的凹坑(2)为圆周均匀设置。
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