[发明专利]用于持续地将薄膜层淀积在衬底上的气相淀积设备和过程无效
| 申请号： | 201110461636.2 | 申请日： | 2011-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102534510A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | S·D·费尔德曼-皮博迪;R·W·布莱克;E·J·利特尔;M·J·帕沃尔;C·拉思维格;M·W·里德 | 申请（专利权）人： | 初星太阳能公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李强;傅永霄 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于持续地将薄膜层淀积在衬底上的气相淀积设备和过程。提供了一种用于使升华的源材料作为薄膜而气相淀积在光生伏打模块衬底14上的设备100和过程。设备100包括设置在淀积头110中的至少一个容器116。各个容器116构造成接收粒状源材料117。加热系统构造成加热容器(一个或多个)116，以使源材料117升华。基本竖向的分配板152设置在容器(一个或多个)116和被传送通过设备100的衬底14之间。分配板152定位在距衬底14的淀积表面的竖向传送平面规定距离处。分配板152包括通过其中的一定型式的通道，通道分配升华的源材料，以使其淀积到衬底14的淀积表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 持续 薄膜 层淀积 衬底 气相淀积 设备 过程 | ||
【主权项】：
一种用于将升华的源材料(117)作为薄膜而气相淀积在光生伏打(PV)模块衬底(14)上的设备(100)，所述设备包括：淀积头(110)；设置在所述淀积头(110)中的容器(116)，其中，所述容器(116)构造成接收粒状源材料(117)；加热系统(115)，其构造成加热所述容器(116)，以使所述源材料(117)升华；以及，设置在所述容器(116)和基本沿竖向被传送通过所述设备(100)的衬底(14)之间的基本竖向的分配板(152)，其中，所述分配板(152)定位在距所述衬底(14)的淀积表面的竖向传送平面规定距离处，所述分配板(152)包括通过其中的一定型式的通道，所述通道分配所述升华的源材料(119)，以使其淀积到所述衬底(14)的所述淀积表面上。
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