[发明专利]光学邻近修正方法

摘要

一种光学邻近修正方法，包括：获得经过至少一次光学邻近修正后的当前修正掩模板图形，对当前修正掩模板图形进行光学模拟获得模拟图形；将模拟图形与目标图形进行比较，获得多个边缘位置误差；当边缘位置误差大于预定值时，若当前修正掩模板图形的待修正边与相邻掩模板图形的距离大于掩模板的最小设计尺寸时，对当前修正掩模板图形的待修正边进行修正，若当前修正掩模板图形的待修正边与相邻掩模板图形的距离等于掩模板的最小设计尺寸时，将当前修正掩模板图形的待修正边的相邻边向外移动；重复上述过程，直至边缘位置误差在预定值之内。本发明实施例的方法提高了光学邻近修正的效率。

主权项

一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：获得经过至少一次光学邻近修正后的当前修正掩模板图形，对当前修正掩模板图形进行光学模拟获得模拟图形以模拟该掩模板图形经过光刻工艺后在硅片上形成的图像；将模拟图形与目标图形进行比较，获得多个边缘位置误差；判断边缘位置误差是否超过预定值，若边缘位置误差大于预定值，大于预定值的边缘位置误差对应的当前修正掩模板图形的边为待修正边；判断当前修正掩模板图形的待修正边与相邻掩模板图形的距离是否大于掩模板的最小设计尺寸，若当前修正掩模板图形的待修正边与相邻掩模板图形的距离大于掩模板的最小设计尺寸时，对当前修正掩模板图形的待修正边进行修正，若当前修正掩模板图形的待修正边与相邻掩模板图形的距离等于掩模板的最小设计尺寸时，将当前修正掩模板图形的待修正边的相邻边向外移动；重复上述过程，直至当前修正掩模板图形的边缘位置误差在预定值之内。