[发明专利]一种基片光学特性的在线膜厚直接监测系统及方法无效
| 申请号： | 201110446270.1 | 申请日： | 2011-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102517559A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 贾秋平;卢维强;张智广;范文生;徐志根 | 申请（专利权）人： | 北京奥博泰科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/52;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人： | 尹振启 |
| 地址： | 100070 北京市丰台区丰*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基片光学特性的在线膜厚直接监测系统及方法，具体为：首先，在基片的镀膜过程中光源垂直照射在接近旋转卡具中心的外侧放置的监测基片上，通过光接收器采集反射或透射的光信号，并根据采集到的光信号得到基片的镀制膜厚；其次，将监测到的膜厚与所需膜厚进行比较，根据比较结果控制是否继续镀制；再次，重复上述步骤直至监测基片上膜层镀制完毕。本发明直接监测接近旋转卡具中心的外侧放置的工件，在镀膜过程中此处设置的工件可以随旋转卡具一起转动，此处工件的镀制膜厚与旋转卡具上其他位置工件的镀制膜厚基本相同，在镀制过程中可以克服现有的膜层监测方法的缺陷，使膜厚镀制控制更为方便、简单，从而得到高质量的光学产品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 特性 在线 直接 监测 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种基片光学特性的在线膜厚直接监测方法， 具体为：首先，在基片的镀膜过程中，将光源垂直照射在接近旋转卡具中心的外侧放置的监测基片上，通过光接收器采集反射或透射的光信号，并根据采集到的光信号得到基片的镀制膜厚；其次，将监测到的膜厚与所需膜厚进行比较，根据比较结果控制是否继续镀制；再次，重复上述步骤直至监测基片上膜层镀制完毕。
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