[发明专利]一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机无效

专利信息
申请号: 201110441968.4 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN102433533A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 李建昌;宫兴;简晓慧;巴德纯 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C23C14/12 分类号: C23C14/12;C23C14/22;C23C14/24
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人: 梁焱
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机,包括电控系统、喷射系统和系统支架,系统支架下部固定安装有抽气系统,抽气系统通过预抽管道和高真空管道连接一个带有观察窗和盲法兰的真空喷射室,真空喷射室内设置有可往复移动的移动基片加热转台,将溶液喷射到基片上实现喷射镀膜的喷射系统设置在真空喷射室侧部,喷射系统的喷嘴伸入真空喷射室内并对准固定在移动基片加热转台上的基片,电控系统通过导线与测量装置、基片加热转台相连。该镀膜机生产效率高,能实现高质量高分子功能薄膜的制备且成本低,可用于开发纳米级单层及多层功能薄膜、梯度薄膜、半导体薄膜、导电薄膜等。
搜索关键词: 一种 制备 高分子 功能 薄膜 真空 喷射 镀膜
【主权项】:
一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机,包括电控系统、喷射系统和系统支架,其特征在于:所述系统支架下部固定安装有抽气系统,抽气系统通过预抽管道和高真空管道连接一个带有观察窗和盲法兰的真空喷射室,真空喷射室内设置有可往复移动的移动基片加热转台,将溶液喷射到基片上实现喷射镀膜的喷射系统设置在真空喷射室侧部,喷射系统的喷嘴伸入真空喷射室内并对准固定在移动基片加热转台上的基片,电控系统通过导线与测量装置、基片加热转台相连。
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