[发明专利]PVD设备工艺控制方法和PVD设备工艺控制装置有效
申请号: | 201110439122.7 | 申请日: | 2011-12-23 |
公开(公告)号: | CN103173734A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 杨洋 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种PVD设备工艺控制方法和PVD设备工艺控制装置。该方法包括:步骤1,控制加热装置以第一设定功率对反应腔室进行加热;步骤2,对反应腔室的温度进行检测,得出反应腔室的当前腔室温度;步骤3,判断反应腔室的当前腔室温度是否大于第一设定温度;若是,则执行步骤4;否则,返回步骤1;步骤4,控制加热装置以第二设定功率对反应腔室进行加热,执行步骤5;步骤5,判断反应腔室的当前腔室温度是否小于第二设定温度;若是,则返回步骤1;否则,返回步骤4。本发明提供的技术方案避免了加热过程中加热装置频繁开启和关闭,从而提高了加热装置的使用寿命以及提高了加热效率和可靠性。 | ||
搜索关键词: | pvd 设备 工艺 控制 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种PVD设备工艺控制方法,其特征在于,包括下列步骤:步骤1,控制加热装置以第一设定功率对反应腔室进行加热;步骤2,对所述反应腔室的温度进行检测,得出所述反应腔室的当前腔室温度;步骤3,判断所述反应腔室的当前腔室温度是否大于第一设定温度;若是,则执行步骤4;否则,返回步骤1;步骤4,控制所述加热装置以第二设定功率对所述反应腔室进行加热,执行步骤5;步骤5,判断所述反应腔室的当前腔室温度是否小于第二设定温度;若是,则返回步骤1;否则,返回步骤4。
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