[发明专利]一种吸收层具有带隙梯度结构的微晶硅锗薄膜太阳电池无效
申请号: | 201110434443.8 | 申请日: | 2011-12-22 |
公开(公告)号: | CN102522447A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 张建军;曹宇;李天微;黄振华;倪牮;赵颖;耿新华 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/075 | 分类号: | H01L31/075;H01L31/18;C23C16/24 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种吸收层具有带隙梯度结构的微晶硅锗薄膜太阳电池,包括透明衬底、透明导电薄膜、P型窗口层、本征吸收层、N+层、背反射电极和金属电极,所述本征吸收层具有带隙梯度结构,薄膜层数为2-5层,薄膜厚度为50-500nm,相邻两层薄膜带隙的变化幅度为0.1-0.3eV;其制备方法是:通过改变气体流量、气体压强、衬底温度和辉光功率,连续沉积不同带隙的微晶硅锗薄膜,形成具有带隙梯度的本征吸收层。本发明的优点是:该微晶硅锗薄膜电池结构新颖,工艺简单、易于操作、可以有效的优化电池的结构特性,提高本征层的器件质量,在保证微晶硅锗薄膜太阳电池高短路电流的同时,提高电池的开路电压和填充因子,从而提高了器件性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 吸收 具有 梯度 结构 微晶硅锗 薄膜 太阳电池 | ||
【主权项】:
一种吸收层具有带隙梯度结构的微晶硅锗薄膜太阳电池,其特征在于:包括透明衬底、透明导电薄膜、P型窗口层、本征吸收层、N+层、背反射电极和金属电极,所述本征吸收层具有带隙梯度结构,带隙梯度为纵向分布,带隙范围为1.1‑0.66eV,具有带隙梯度本征吸收层的薄膜层数为2‑5层,每一层薄膜厚度为50‑500nm,相邻两层薄膜带隙的变化幅度为0.1‑0.3eV。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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