[发明专利]一种吸收层具有带隙梯度结构的微晶硅锗薄膜太阳电池无效

专利信息
申请号: 201110434443.8 申请日: 2011-12-22
公开(公告)号: CN102522447A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 张建军;曹宇;李天微;黄振华;倪牮;赵颖;耿新华 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/075 分类号: H01L31/075;H01L31/18;C23C16/24
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种吸收层具有带隙梯度结构的微晶硅锗薄膜太阳电池,包括透明衬底、透明导电薄膜、P型窗口层、本征吸收层、N+层、背反射电极和金属电极,所述本征吸收层具有带隙梯度结构,薄膜层数为2-5层,薄膜厚度为50-500nm,相邻两层薄膜带隙的变化幅度为0.1-0.3eV;其制备方法是:通过改变气体流量、气体压强、衬底温度和辉光功率,连续沉积不同带隙的微晶硅锗薄膜,形成具有带隙梯度的本征吸收层。本发明的优点是:该微晶硅锗薄膜电池结构新颖,工艺简单、易于操作、可以有效的优化电池的结构特性,提高本征层的器件质量,在保证微晶硅锗薄膜太阳电池高短路电流的同时,提高电池的开路电压和填充因子,从而提高了器件性能。
搜索关键词: 一种 吸收 具有 梯度 结构 微晶硅锗 薄膜 太阳电池
【主权项】:
一种吸收层具有带隙梯度结构的微晶硅锗薄膜太阳电池,其特征在于:包括透明衬底、透明导电薄膜、P型窗口层、本征吸收层、N+层、背反射电极和金属电极,所述本征吸收层具有带隙梯度结构,带隙梯度为纵向分布,带隙范围为1.1‑0.66eV,具有带隙梯度本征吸收层的薄膜层数为2‑5层,每一层薄膜厚度为50‑500nm,相邻两层薄膜带隙的变化幅度为0.1‑0.3eV。
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