[发明专利]一种相位移焦距检测光罩及制造方法及检测焦距差的方法有效
| 申请号： | 201110392792.8 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102519521A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 李文亮;吴鹏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01F1/44 | 分类号： | G01F1/44;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李琳;张龙哺 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种相位移焦距检测光罩、其制造方法以及使用该相位移焦距检测光罩检测光刻机的焦距差的方法，该相位移焦距检测光罩包括：遮蔽层，包括具有一定宽度的多个透光区域；玻璃层，位于所述遮蔽层上方，并在所述多个透光区域处具有多个开口，其中所述多个开口的宽度为所述多个透光区域的宽度的一半，深度为n*λ/(N-1)，λ为入射到所述相位移焦距检测光罩的光在空气中的波长，N为所述玻璃层的折射率，n为正整数。本发明适用于更厚的光刻胶以及更多种类的机台。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 相位 焦距 检测 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种相位移焦距检测光罩，包括：遮蔽层，包括具有一定宽度的多个透光区域；玻璃层，位于所述遮蔽层上方，并具有与所述多个透光区域连通且对应的多个开口，其中所述多个开口的宽度为所述多个透光区域的宽度的一半，深度为n*λ/(N‑1)，λ为入射到所述相位移焦距检测光罩的光在空气中的波长，N为所述玻璃层的折射率，n为正整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110392792.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
