[发明专利]对光掩膜设计版图进行光学临近修正的方法和装置

摘要

本申请涉及一种对光掩膜设计版图进行光学临近修正的方法和装置，该方法包括：通过OPC模型仿真为原始光掩膜设计版图中具有相似二维角的图形确定分立型的子辅助图形的个数、形状、大小及位置；搜索所述原始光掩膜设计版图中所有具有相似二维角的图形的两个边上的所有修正片段集合；根据所确定的位置移动所有修正片段集合，由此形成分立型的子辅助图形；将所得到的分立型的子辅助图形与原始光掩膜设计版图进行逻辑或运算，从而将分立型的子辅助图形添加在原始光掩膜设计版图的具有相似二维角的图形的周围。本申请可以提高二维角图形的保形性；避免生产成本增加；以及灵活设计和组合分立型的辅助图形，从而提高二维图形的分辨率。

主权项

一种对光掩膜设计版图进行光学临近修正的方法，该方法包括如下步骤：确定步骤，通过OPC模型仿真为原始光掩膜设计版图中具有相似二维角的图形确定分立型的子辅助图形的个数、形状、大小及位置；搜索步骤，搜索所述原始光掩膜设计版图中所有具有相似二维角的图形的两个边上的所有修正片段集合；形成步骤，根据所述确定步骤所确定的位置移动所有修正片段集合，由此形成所述分立型的子辅助图形；以及添加步骤，将所述形成步骤所得到的分立型的子辅助图形与所述原始光掩膜设计版图进行逻辑或运算，从而将所述分立型的子辅助图形添加在所述原始光掩膜设计版图的具有相似二维角的图形的周围。