[发明专利]一种钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110385214.1 申请日: 2011-11-28
公开(公告)号: CN102491740A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 王鹏飞;卢亚锋;张国防;金利华;王耀;于泽铭;李成山 申请(专利权)人: 西北有色金属研究院
主分类号: C04B35/45 分类号: C04B35/45;C04B35/622
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 谭文琰
地址: 710016*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜,该超导薄膜的化学组成为YSmxBa2-xCu3Oy,其中0<x≤0.5。本发明还公开了钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜的制备方法,该方法为:一、制备前驱液;二、采用旋涂法将前驱液涂覆于基底上,然后真空干燥;三、将干燥后的基底置于管式炉中进行热解,得到前驱膜;四、将前驱膜置于管式炉中进行晶化处理,得到钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜;或者将前驱膜作为基底,重复二和三1次或多次后置于管式炉中进行晶化处理,得到钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜。本发明通过在钡位掺杂钐引入离子缺陷作为钉扎中心,以减少磁通蠕动所产生的能量损耗,与YBCO薄膜相比,提高了其在外加磁场下的临界电流密度。
搜索关键词: 一种 掺杂 钇钡铜氧 超导 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜,其特征在于,该超导薄膜的化学组成为YSmxBa2‑xCu30y,其中0<x≤0.5。
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