[发明专利]同轴调节方法

摘要

一种同轴调节方法，需要调节同轴度二个旋转体包括第一旋转体和第二旋转体。步骤包括：在第一旋转体上固定一伸向第二旋转体的调整块，使得调整块在第一旋转体带动下做画圈式旋转；在第二旋转体面向第一旋转体的表面上吸附一个圆柱形磁铁，且磁铁位于调整块画圈旋转时形成的圆柱形空间内；旋转第一旋转体；调节调整块在第一旋转体上的位置，使得调整块旋转时画圈的内径刚好与磁铁的外径相同；旋转述第二旋转体；调整第一旋转体以及磁铁的位置，使得第二旋转体带动磁铁旋转时，磁铁的外壁一直挨着调整块的内壁旋转。上述同轴调节方法，采用元件少，结构简单，操作简便。

主权项

一种同轴调节方法，需要调节同轴度二个旋转体包括第一旋转体和第二旋转体，其特征在于，所述同轴调节方法包括如下步骤：步骤S1，在所述第一旋转体上固定一伸向所述第二旋转体的调整块，使得所述调整块在所述第一旋转体带动下做画圈式旋转；步骤S2，在所述第二旋转体面向所述第一旋转体的表面上吸附一个圆柱形磁铁，且所述磁铁位于所述调整块画圈旋转时形成的圆柱形空间内；步骤S3，旋转所述第一旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况；步骤S4，停止旋转所述第一旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调节所述调整块在所述第一旋转体上的位置，使得所述调整块旋转时画圈的内径刚好与所述磁铁的外径相同；步骤S5，旋转所述第二旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况；步骤S6，停止旋转所述第二旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调整所述第一旋转体以及所述磁铁的位置，使得所述第二旋转体带动所述磁铁旋转时，所述磁铁的外壁一直挨着所述调整块的内壁旋转。