[发明专利]一种真空镀膜设备的PLC虚拟设备控制系统及控制方法无效
| 申请号： | 201110355467.4 | 申请日： | 2011-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN103103491A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 戚晖;耿达;张国栋;张华威 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 许宗富 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开一种真空镀膜设备的PLC虚拟设备控制系统及控制方法，本发明主要解决更改设备需要重新设计控制方式的问题，本发明系统主要包括PLC、上位机和外部设备，PLC为主控设备，特点是在PLC内采用虚拟化输入/输出端口，使工艺流程实现与外部设备无关联，保证外部设备的更改只需简单地修改配置参数就能达到控制系统设计要求；本发明真空镀膜设备的控制方法，通过使用虚拟设备参数寻址方法，利用PLC变址技术将输入/输出端口与虚拟设备的端口建立映射联系，实现真空镀膜设备使用一套控制系统来适应不同外部部件，从而保证了控制系统的可靠性和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 设备 plc 虚拟 控制系统 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜设备的PLC虚拟设备控制系统，其特征在于包括PLC、上位机、外部设备，其中PLC为主控设备包括各虚拟设备和PLC输入/输出端口，各虚拟设备通过PLC输入/输出端口接外部设备；PLC输入端口接外部设备的反馈信号，PLC输出端口接外部设备的控制端；上位机为计算机与PLC通讯连接，并控制外部设备的控制参数写入到PLC对应虚拟设备控制参数区域内，实现对PLC的编程与控制。
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