[发明专利]一种旋转气流降温热板有效
申请号: | 201110332092.X | 申请日: | 2011-10-27 |
公开(公告)号: | CN103094147A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 魏猛 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及对半导体涂胶晶片进行烘烤的设备,具体地说是一种旋转气流降温热板,包括盘体及外壳,外壳包围在盘体的外部,盘体的底部边缘与外壳的底部密封连接,盘体的侧表面与外壳的内壁之间留有间隙;外壳内开有腔体,该腔体与间隙之间的盘体上均布有多个通孔;在盘体底部边缘与外壳底部的密封处内外设有两组接头,位于内侧的一组接头为与间隙连通的排风接头,各排风接头分别接至排风负压气源,位于外侧的另一组接头为与所述腔体连通的输送气体的接头;外壳顶部与盘体顶部之间的间隙体积缩小。本发明的盘体降温采用伯努利原理,使得盘体能够快速降温,提高设备的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 旋转 气流 降温 | ||
【主权项】:
一种旋转气流降温热板,其特征在于:包括盘体(1)及外壳(2),其中外壳(2)包围在盘体(1)的外部,盘体(1)的底部边缘与外壳(2)的底部密封连接,所述盘体(1)的侧表面与外壳(2)的内壁之间留有间隙(5);所述外壳(2)内开有腔体(4),该腔体(4)与所述间隙(5)之间的盘体(1)上均布有多个通孔(6);在盘体(1)底部边缘与外壳(2)底部的密封处内外设有两组接头,位于内侧的一组接头为与所述间隙(5)连通的排风接头(3),各排风接头(3)分别接至排风负压气源,位于外侧的另一组接头为与所述腔体(4)连通的输送气体的接头;所述外壳(2)顶部与盘体(1)顶部之间的间隙(5)体积缩小。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造