[发明专利]用于样品结构显微成像的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201110317596.4 申请日: 2011-10-18
公开(公告)号: CN102539395A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: J·佛林 申请(专利权)人: 徕卡显微系统复合显微镜有限公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 王勇
地址: 德国韦*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 用于光学显微成像样品结构(34)的方法和装置。用标记准备样品结构,这些标记可转变到可光学显微成像的状态,产生活性标记部分,其中标记的一部分被转变到可光学显微成像的状态,且在存在预定的活化状态时,包含在活性标记部分中的标记彼此具有大于由光学成像装置的分辨率极限预定的最小间距的平均间距,该样品结构被成像在传感器元件的布置(40)上,传感器元件分别产生图像信号,后者以其整体给出样品结构的单幅图像。此外检验预定活化状态的存在,其中相距一个时间间隔地产生至少两个单幅检验图像,及至少对传感器元件的一部分分别检测图像信号在两个单幅检验图像间的变化。在检测到的图像信号的变化整体上超过预定大小时确定预定活化状态存在。
搜索关键词: 用于 样品 结构 显微 成像 方法 设备
【主权项】:
一种用于光学显微成像样品结构(34)的方法,其中:用标记来准备所述样品结构(34),所述标记可转变到可光学显微成像的状态,产生活性标记部分,其中所述标记的一部分被转变到该可光学显微成像的状态中,在存在预先确定的活化状态时,该样品结构(34)被成像在传感器元件的装置(40)上,在所述活化状态中,包含在活性标记部分中的标记彼此之间具有平均间距,该平均间距大于由光学显微成像装置的分辨率极限预先确定的最小间距,这些传感器元件分别产生图像信号,其中,这些图像信号以其整体给出样品结构(34)的单幅图像,其特征在于,检验该预先确定的活化状态的存在,其中相距一个时间间隔地产生至少两个单幅检验图像,至少对于传感器元件的一部分分别检测图像信号在两个单幅检验图像之间的变化,并且在检测到的图像信号的变化在其整体上超过预先确定的大小时,确定该预先确定的活化状态存在。
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