[发明专利]透镜及透镜的制造方法有效
申请号: | 201110272031.9 | 申请日: | 2011-09-13 |
公开(公告)号: | CN102402002A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 八木隆之 | 申请(专利权)人: | 株式会社小糸制作所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B3/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种透镜,其可以在配光图案的形成中有效地利用光源发光部的形状,且设计自由度高。为了确定投影透镜的入射面的形状,首先定义第1发光点(S1)、第2发光点(S2)以及第1投影点(r1)。然后,计算入射点(Pi)上的假想入射面(SF1)的入射点法线矢量(ni),以使得从第1发光点(S1)发出的光向假想入射面SF1上的入射点(Pi)入射,并向第1投影点(r1)投影,使从第2发光点(S2)发出的光向入射点(Pi)入射,并向相对于第1投影点(r1)位于规定方向上的第2投影点(r2)投影。投影透镜的入射面形成为,使用在多个入射点(Pi)上计算出的入射点法线矢量(ni)定义的形状。 | ||
搜索关键词: | 透镜 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种透镜的制造方法,其特征在于,具有下述工序:定义第1发光点(S1)、第2发光点(S2)、以及第1投影点(r1),以使从第1发光点(S1)发出的光分别向假想入射面上的多个入射点(Pi)入射,而向第1投影点(r1)投影,使从第2发光点(S2)发出的光分别向所述多个入射点(Pi)入射,而向相对于第1投影点(r1)位于规定方向上的第2投影点(r2)投影的方式,计算所述多个入射点(Pi)各自的所述假想入射面的法线方向(ni);使用在所述多个入射点(Pi)处计算出的法线方向(ni),定义所述假想入射面的形状;以及使入射面形成为所定义的所述假想入射面的形状。
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