[发明专利]成膜掩模有效
| 申请号： | 201110230279.9 | 申请日： | 2011-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN102373409A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 唐木哲也 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H05B33/10;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 欧阳帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及成膜掩模。本发明提供了能够防止缝隙状开口由于振动而闭塞的成膜掩模，从而稳定地形成高精细的图形化的膜。在通过在金属箔中设置多个缝隙状开口而形成的成膜掩模中，缝隙状开口的至少一个端部的开口的形状关于缝隙状开口的宽度方向的中心线不对称。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜掩模 | ||
【主权项】：
一种成膜掩模，包括被固定到框体的金属箔，其中在一个方向上比在其它方向上更强的张力被施加到所述金属箔，其中：所述金属箔包括在所述一个方向上延长的缝隙状开口，所述缝隙状开口在缝隙状开口的短边方向上被重复地设置；以及每个缝隙状开口的至少一个端部的形状关于缝隙状开口的短边的中心线不对称。
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