[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201110223455.6 | 申请日： | 2011-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN102911605A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖;孙展龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于浅槽隔离的化学机械抛光液。该抛光液至少含有含有一种二氧化铈的磨料，一种有机膦酸，一种pH调节剂，和载体水，具有较高的高密度等离子体二氧化硅和较低的氮化硅的去除速率，抛光后的表面平坦光洁，稳定性好，适用于浅槽隔离的化学机械平坦化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，包括：一种二氧化铈的磨料，一种有机膦酸，一种pH调节剂，和载体水。
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