[发明专利]一种在同一块板上多种表面处理的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110182567.1 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102365001A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: 王斌;陈华巍;陈毅;谢兴龙;朱忠星 申请(专利权)人: 广东达进电子科技有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/22;H05K3/34
代理公司: 中山市科创专利代理有限公司 44211 代理人: 谢自安
地址: 528400 广东省中*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种在同一块板上多种表面处理的制造方法,包括如下步骤:开料:按各层符合设计要求的铜箔开料。贴感光干膜。除最外面的顶层和底层外,在各个内层中贴上感光干膜。图形转移:将各个内层的图形转移到板面上。图形蚀刻:用蚀刻药水将不需要的位置全部蚀掉。退干膜:将贴上的干膜全部退掉。图形检查:用扫描仪器检查出线路的开短路等不良现象。棕化:主要是粗化内层各层的铜面及线面。叠层并压合:将将内/外层各层全部叠在一起,并将内/外层各层全部压在一起。机械钻孔:钻出各层的导通孔及打元件孔。P.T.H:将各个孔的内壁上沉上铜。板电:加厚电路板上孔内的铜层及板面上的铜层。贴感光干膜:外层整面贴上感光干膜。图形转移:将外层的图形转移到板面上。图形电镀:用于加厚电路板上的孔内铜厚及图形的铜厚。图形蚀刻:用蚀刻药水将不需要的位置全部蚀掉。图形检查:用扫描仪器检查出线路的开短路等不良现象。绿油:主要起绝缘的作用。贴感光干膜:外层整面贴上感光干膜。曝光:将需要化金的位置进行曝光处理。显影:将需要化金的位置显影出来。沉金:感光干膜显影出来的位置全部进行化金,干膜没有显影出来的位置被干膜保护,无法沉上金。退干膜:将干膜退掉。成型:将生产出来的电路板的尺寸锣成达到出货要求的尺寸。检测:将成型后的电路板进行测试,确定外观及功能无问题。OSP处理:一种抗氧化膜,未化金位置就是OSP表面处理。FQC:再次全检,确定外观及功能无问题;最终检查。QA最后再检查。
搜索关键词: 一种 一块 多种 表面 处理 制造 方法
【主权项】:
一种在同一块板上多种表面处理的制造方法,其特征在于包括如下步骤:A、开料:按各层符合设计要求的铜箔开料;B、贴各个内层的感光干膜:除最外面的顶层和底层外,在各个内层中贴上感光干膜;C、内层图形转移:利用菲林曝光的技术,将各个内层的图形转移到板面上;D、图形蚀刻:用蚀刻药水将不需要的位置全部蚀掉,需要的位置则保留;E、退干膜:将贴上的干膜全部退掉,将铜面及线路露出;F、图形检查:用扫描仪器检查出线路的开短路等不良现象,完成各个内层的线路制作;G、棕化:主要是粗化内层各层的铜面及线面,使其后工序压合时层与层之间良好的结合;H、叠层并压合:将将内/外层各层全部叠在一起,并将内/外层各层全部压在一起,压合后可测量涨缩系数,确定内层菲林的补偿;I、机械钻孔:钻出各层的导通孔及打元件孔;J、P.T.H:将各个孔的内壁上沉上铜,实现将各层全部连通;K、板电:加厚电路板上孔内的铜层及板面上的铜层;L、外层贴感光干膜:外层整面贴上感光干膜;M、外层的图形转移:利用菲林曝光的技术,将外层的图形转移到板面上;N、图形电镀:用于加厚电路板上的孔内铜厚及图形的铜厚;O、图形蚀刻:用蚀刻药水将不需要的位置全部蚀掉,需要的位置则保留,蚀刻后测量相关点的距离;P、图形检查:用扫描仪器检查出线路的开短路等不良现象,完成外层的制作;Q、绿油:绿油一种液体,丝印在板面上,主要起绝缘的作用;R、外层贴感光干膜:外层整面贴上感光干膜;S、曝光:在电路板上,将需要化金的位置进行曝光处理;T、显影:将电路板进行曝光后,将需要化金的位置显影出来;U、沉金:在电路板上,感光干膜显影出来的位置全部进行化金,干膜没有显影出来的位置被干膜保护,无法沉上金,即仍为铜面;V、退干膜:完成沉金步骤后,将干膜退掉;W、成型:将生产出来的电路板的尺寸锣成达到出货要求的尺寸;X、检测:将成型后的电路板进行开短路性能测试和FQC测试,确定外观及功能无问题;Y、OSP处理:一种抗氧化膜,未化金位置就是OSP表面处理;Z、FQC:再次全检,确定外观及功能无问题;AA、最终检查:QA最后再检查。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东达进电子科技有限公司,未经广东达进电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110182567.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top