[发明专利]光电材料制备有效
申请号: | 201110058165.0 | 申请日: | 2011-03-08 |
公开(公告)号: | CN102675278B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 陈永胜;刘永胜;万相见;王菲;龙冠奎;周娇艳 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | C07D333/22 | 分类号: | C07D333/22;C07D417/14;C07D333/24;C07D409/14;C07D495/04;C09K11/06;C08G61/12;H01L51/05;H01L51/42 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人: | 王达佐,阴亮 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 光电材料制备公开了含受体端基的给受体型寡聚噻吩化合物、其制备方法与用途。 | ||
搜索关键词: | 光电 材料 制备 | ||
【主权项】:
选自通式(1)至通式(6)的含受体端基的给受体型寡聚噻吩化合物:通式(1)通式(2)通式(3)通式(4)通式(5)通式(6)其中,n为1至50的整数;R1和R2分别独立地选自H或C1‑C30烷基,其中R1和R2可以相同也可以不同,但是R1和R2不能同时为H;D和D1分别为独立地选自基团7、基团8、基团15至基团19的桥连的共轭电子给体单元,其中R3选自H、C1‑C30烷基或C1‑C30烷氧基;A和A1分别为独立地选自基团20的桥连的共轭电子受体单元,以及A2为端基受体单元,其中A2选自基团28、基团30至基团34:其中R5选自C1‑C30烷基。
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