[发明专利]光学构件及其制造方法有效
| 申请号： | 201080015163.7 | 申请日： | 2010-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN102378924A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 桥口慎二;平野一孝;森彬 | 申请（专利权）人： | 斯泰拉化工公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 金世煜;苗堃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能选择性地提高在各波长区域的透过性的由陶瓷形成的光学构件及其制造方法。本发明的光学构件，通过使至少含有氟原子的处理气体与由特定陶瓷形成的光学材料在对应于所述特定陶瓷的条件下接触，由此在所述光学材料的表面的至少一部分区域设置能提高特定波长区域的光的透射率的氟化膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 构件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学构件，其特征在于，使至少含有氟原子的处理气体与由特定陶瓷形成的光学材料在对应于所述特定陶瓷的条件下接触，由此在所述光学材料的表面的至少一部分区域设置能提高特定波长区域的光的透射率的氟化膜。
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