[发明专利]磁制冷结构无效
申请号: | 201010287595.5 | 申请日: | 2010-09-17 |
公开(公告)号: | CN102032707A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 张力;温惠玲;孟世平;郭钟荣 | 申请(专利权)人: | 台达电子工业股份有限公司 |
主分类号: | F25B21/00 | 分类号: | F25B21/00;H01F1/00;C09K5/14 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种磁制冷结构,其包括一磁制冷材料及至少一保护层。前述磁制冷材料为条状或板状。前述保护层设于前述磁制冷材料上。本发明磁制冷结构因呈特殊形状或具有保护层,故耐撞击力、吸热面积、抗氧化、可靠度及使用寿命等均被大幅提高,甚至不会有阻碍工作流体流动路径的情形发生,本发明可以大幅度提高可靠度及使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 制冷 结构 | ||
【主权项】:
一种磁制冷结构,包括:磁制冷材料,该磁制冷材料为条状或板状;以及至少一保护层,设于该磁制冷材料上。
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