[发明专利]高纯磷烷的净化和分析无效

专利信息
申请号: 201010284480.0 申请日: 2010-09-17
公开(公告)号: CN102398898A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 尹恩华;武峰;陆方喜 申请(专利权)人: 武峰
主分类号: C01B25/06 分类号: C01B25/06;G01N30/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 277100 山东省枣庄市市*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 高纯磷烷研制的工艺过程分为两步,第一步为磷烷气体的生成,即用起始原料亚磷酸生产出约2N纯度的磷烷;第二步是采用低温真空分离、吸附干燥、精馏和镓-铟合金或催化剂深吸附脱水、氧。最后纯度为5N5。过滤除颗粒(常见金属)以及高纯气体灌装,生产出适合我国电子行业需要的5N5高纯气体。高纯磷烷分析内容包括:痕量氧+氩、氮、总烃、一氧化碳、二氧化碳、水和砷烷杂质分析(浓缩或DID色谱)。杂质分析灵敏度分别为0.1~0.2PPM。
搜索关键词: 高纯 净化 分析
【主权项】:
粗制磷烷经冷冻后脱除甲烷,由于磷烷与甲烷的沸点相差很多,通过低温冷冻在‑90~‑120℃左右,初步分离少量氢、甲烷、二氧化碳、一氧化碳、氧、氮(氢、氮一般对电子工业无害)。
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