[发明专利]一种钝化剂及采用该钝化剂对锗基器件表面预处理的方法有效
| 申请号： | 201010269030.4 | 申请日： | 2010-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102381718A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 郭岳;安霞;王润声;黄如;张兴 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C01C1/16 | 分类号： | C01C1/16;H01L21/18 |
| 代理公司： | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 | 代理人： | 张肖琪 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用氟化铵溶液作为钝化剂对锗基器件进行表面预处理的方法，属于超大规模集成电路(ULSI)工艺制造技术领域。本发明使用氟化铵水溶液对锗基器件进行表面预处理，可以减小界面态并且能够有效抑制自然氧化层的再次生成和锗基衬底材料的外扩散现象，还可以提高金属锗化物的热稳定性。本发明简单有效地改善了锗基器件的界面特性，有利于提升锗基晶体管的性能，在不增加工艺复杂性的情况下对锗基器件进行表面钝化预处理，非常有利于工艺的集成。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 钝化剂 采用 器件 表面 预处理 方法 | ||
【主权项】：
一种锗基表面钝化剂，其特征在于，为氟化铵水溶液，其质量百分比浓度为20‑55％。
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