[发明专利]ULSI铜材料抛光后表面清洗方法有效
| 申请号： | 201010232260.3 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101972755A | 公开（公告）日： | 2011-02-16 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;刘效岩;刘钠;何彦刚 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 刘英兰 |
| 地址： | 300130*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种ULSI铜材料抛光后表面清洗方法，具体步骤如下：制备清洗液，按重量％计：非离子型表面活性剂1-4％、FA/OII型螯合剂0.5-3％、FA/OII型阻蚀剂0.1-5％、余量去离子水；混合搅拌均匀后制备成pH值为7.4-8.2水溶性表面清洗液；使用步骤(1)制备的清洗液对碱性化学机械抛光后的铜材料在2000Pa-3000Pa的低压力、1000-5000ml/min的流量条件下进行抛光清洗，抛光清洗时间至少为0.5-2分钟，以使铜材料表面洁净。采用该清洗方法有益效果是：清洁分布不均的抛光液被迅速冲走，可获得洁净、完美的抛光表面。该方法操作简单，不需添加其它设备，成本低、效率高、无污染，可明显改善器件性能，提高成品率。 | ||
| 搜索关键词： | ulsi 材料 抛光 表面 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种ULSI铜材料抛光后表面清洗方法，其特征在于：具体实施步骤如下，以下按重量％计：(1)制备清洗液：将表面活性剂1‑4％、FA/OII型螯合剂0.5‑3％、FA/OII型阻蚀剂0.1‑5％、余量去离子水，混合搅拌均匀后制备成pH值为7.4‑8.2的水溶性表面清洗液；(2)使用步骤(1)中制备的清洗液对碱性化学机械抛光后的铜材料在2000Pa‑3000Pa低压力下、1000‑5000ml/min的大流量条件下进行抛光清洗，抛光清洗时间0.5‑2分钟。
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